新疆大学学报(自然科学版)(中英文)

1994, (04)

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金属离子在氧化物非晶薄膜中的行为
Behaviours of Metal Particles in Amorphous Oxids Film

谭辉,陶明德,涂楚辙

摘要(Abstract):

CoMnNiO非晶薄膜经金属离子注入后导电能力增强,材料电阻率下降:X射线和扩展电阻测量表明:随着注入剂量的增加,薄膜的晶化温度降低,电阻率下降.这些结果表明金属离子在薄膜中可能形成高电导网络,提供载流子输运第二沟道.这些高电导网络与非晶薄膜的多重网络进行补偿.使材料的电阻率降低.

关键词(KeyWords): 非晶薄膜,离子注入,退火,多重网络补偿

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 谭辉,陶明德,涂楚辙

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