新疆大学学报(自然科学版)

2010, v.27;No.119(03) 335-337

[打印本页] [关闭]
本期目录(Current Issue) | 过刊浏览(Past Issue) | 高级检索(Advanced Search)

磁性多层膜中保护层厚度对磁性层NiFe的影响
The Effect of the Capping Layer with Different Thinkness to the Magnetic Layer NiFe in Magnetic Multilayers

卡马勒·托克达尔汗;拜山·沙德克;

摘要(Abstract):

本文主要讲述了SV-TMR结构中以自由层为模拟的多层膜SiO2/NiFe/Ta与SiO2/NiFe/Ru中,不同厚度的保护层钽(Ta)和钌(Ru)对磁性层NiFe的影响.我们采用振动样品磁强计(VSM)和X射线衍射仪(XRD)对该薄膜进行了结构测试和深度剖析,结果表明:改变保护层厚度时,两种样品的饱和磁化强度不变,随Ru厚度的增加,样品SiO2/NiFe/Ru的矫顽力也增加.同时用XRD测量发现,以Ru为保护层生长的样品比Ta为保护层生长的样品具有更好的织构,更好的结晶性.Ru比Ta更适合做磁电阻多层膜的保护层.

关键词(KeyWords): 磁性薄膜;自由层;保护层

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家自然科学基金资助项目(50661005);; 国家教育部留学回国人员科研启动基金资助项目(030205);; 新疆大学博士启动基金资助项目(BS050101)

作者(Author): 卡马勒·托克达尔汗;拜山·沙德克;

Email:

扩展功能
本文信息
服务与反馈
本文关键词相关文章
本文作者相关文章
中国知网
分享